特許

J-GLOBAL ID：200903031347501415

ガス精製方法およびそれに用いる装置

発明者： 吉野 明 ,  木山 洋実 ,  宮本 篤 ,  菊地 延尚
出願人/特許権者： 大同ほくさん株式会社
代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267569
公開番号（公開出願番号）：特開平10-114503
出願日： 1996年10月08日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工場等で必要とされる超高純度(99.99999%程度)の水素を得ることのできるガス精製方法を提供する。【解決手段】H2 を含む混合ガスを脱湿工程に導入して混合ガス中の水分を除去し、水分除去された混合ガスを低温吸着工程に導入して混合ガス中の不純物を吸着除去し、不純物を吸着除去された混合ガスを極低温吸着工程に導入して混合ガス中の微小不純物を吸着除去して純化するようにしている。

請求項（抜粋）：

H2 を含む混合ガスを脱湿工程に導入して混合ガス中の水分を除去し、水分除去された混合ガスを低温吸着工程に導入して混合ガス中の不純物を吸着除去し、不純物を吸着除去された混合ガスを極低温吸着工程に導入して混合ガス中の微小不純物を吸着除去して純化するようにしたことを特徴とするガス精製方法。

IPC (3件)：

C01B 3/56 ,  B01D 53/04 ,  C10L 3/10

FI (3件)：

C01B 3/56 ,  B01D 53/04 J ,  C10L 3/00 B