特許
J-GLOBAL ID:200903031350870057

局所的遺伝子発現調節法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-322481
公開番号(公開出願番号):特開2001-136962
出願日: 1999年11月12日
公開日(公表日): 2001年05月22日
要約:
【要約】【課題】 任意の局所領域に遺伝子発現を起こさせる方法を提供する。【解決手段】 赤外線レーザーを、生物個体の単一細胞、組織などの局所領域に選択的に照射し、生物個体の局所領域の温度を上昇させることにより、熱ショックによる部位特異的遺伝子組換えを引き起こさせる
請求項(抜粋):
赤外線レーザーを、生物個体の局所領域に選択的に照射し、生物個体の局所領域の温度を上昇させることにより、熱ショックによる部位特異的遺伝子組換えを引き起こさせることを特徴とする局所的遺伝子発現調節法。
IPC (3件):
C12N 15/01 ,  A01H 1/00 ,  C12N 13/00
FI (3件):
A01H 1/00 A ,  C12N 13/00 ,  C12N 15/00 E
Fターム (8件):
2B030CA15 ,  2B030CA17 ,  2B030CA19 ,  4B033NG05 ,  4B033NH02 ,  4B033NH10 ,  4B033NJ04 ,  4B033NK10
引用文献:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る