特許
J-GLOBAL ID：200903031363580651
レイアウト作成方法、サマリレイアウト作成方法、画像サマリレイアウト決定システム、及びこれらの方法及びシステムをプロセッサに実行させるためのプログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-075659
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288182
出願日： 2004年03月17日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】 画像の集合から、美的に好ましい視覚画像サマリを作成する方法及びシステムを提供する。【解決手段】 最小の矩形状形を入力し、レイアウトの全体領域を最小の矩形状形の幅と高さの整数倍として入力し、受容可能な最大の矩形状形を最小の矩形状形の幅と高さの整数倍として入力する方法であって、複数の矩形状形の少なくとも一つが存在した場合、複数の矩形状形が互いに重ならずに入力された全体領域を覆うように入力された矩形状形のいくつかのサイズを最小の矩形状形に相対的であり且つ入力された受容可能な最大の矩形状形より小さいサイズに変更することによって、複数の入力された矩形状形から成るレイアウトを生成し、このような複数の矩形状形が全く存在しない場合、このような組み合わせが存在する入力された全体領域に類似する全体領域を見つけ、その領域にレイアウト方法を適用するレイアウト作成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
レイアウトを作成する方法であって、
(a)最小の矩形状形を入力するステップと、
(b)前記レイアウトの全体領域を、前記最小の矩形状形の幅と高さの整数倍の幅と高さを有する領域として、入力するステップと、
(c)受容可能な最大の矩形状形を、前記最小の矩形状形の幅と高さの整数倍の幅と高さを有する矩形状形として、入力するステップと、
(d)各々が前記最小の矩形状形に相対的なサイズによって特徴付けられる、複数の矩形状形を入力するステップと、
(e)入力された複数の矩形状形の基数を有するように、且つ、入力された複数の矩形状形が互いに重ならず又は全体領域にいかなる非被覆部分をも残さずに、前記入力された全体領域を覆うように、前記最小の矩形状形に相対的であり且つ前記入力された受容可能な最大の矩形状形より小さいサイズの複数の矩形状形が存在するかを判断するステップと、
を有し、
(1)ステップ(e)の複数の矩形状形の少なくとも一つが存在した場合、複数の矩形状形が、互いに重ならずに入力された全体領域を覆うように、入力された矩形状形のいくつかのサイズを前記最小の矩形状形に相対的であり且つ前記入力された受容可能な最大の矩形状形より小さいサイズに変更することによって、入力された複数の矩形状形から成るレイアウトを生成し、
(2)ステップ(e)の複数の矩形状形が全く存在しない場合、ステップ(e)の複数の矩形状形が存在する前記入力された全体領域に類似する全体領域を見つけ、該レイアウト作成方法を適用する、
レイアウト作成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
5B050BA06
, 5B050EA12
, 5B050EA19
, 5B050FA05
, 5B050FA19
, 5C076AA17
, 5C076BA06
