特許

J-GLOBAL ID：200903031370796031

高純度三弗化窒素ガスの精製方法

発明者： 原田 功 ,  安武 剛 ,  諸隈 辰馬 ,  島岡 隆
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-157646
公開番号（公開出願番号）：特開平11-349304
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】【課題】 高純度NF3を安価に製造する。【解決手段】 少なくともHF、OF2、CO2、N2Oを含む粗三弗化窒素ガスを、アルカリ水溶液または/及び還元性水溶液を用い、洗浄塔で除去した後、この水分を含む三弗化窒素ガスを硫酸と接触させる。

請求項（抜粋）：

少なくともHF、OF2、CO2、N2Oを含む粗三弗化窒素ガスを、アルカリ水溶液または/及び還元性水溶液を用い、洗浄塔で除去した後、この水分を含む三弗化窒素ガスを硫酸に接触させることを特徴とする高純度三弗化窒素ガスの精製方法。

IPC (2件)：

C01B 21/083 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

C01B 21/083 ,  H01L 21/302 F