特許

J-GLOBAL ID：200903031375821077

スプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法

発明者： カール-ヘルマン フリーゼ ,  ペーター ヤンズィング ,  ハリ ブラウン ,  ヴァルター バウアー ,  マルク ヴェラー ,  トーマス カンツ
出願人/特許権者： ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-233223
公開番号（公開出願番号）：特開平9-111435
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【目的】 従来技術の欠点を克服し、所望の(所定の)輸送コーティングされる被膜物質量ないし所望の膜厚及び被膜(被覆)さるべき面に亘っての膜厚分布を以ての被膜生成を可能にすること【構成】 被膜材として高温に加熱される無機粒子を用いてサブストレート(基板)の表面への被覆生成を行うためのスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法において、当該のスプレー溶射被膜生成のプロセス期間中輸送コーティングされる被膜物質量ないし膜厚に対する特性量として基板(サブストレート)の表面温度を測定し、設定値からの偏差のある場合、被膜物質量ないし膜厚に対して規定的なプロセスパラメータを変化させること。

請求項（抜粋）：

被膜(被覆)材として高温に加熱される無機粒子を用いてサブストレート(基板)の表面へのスプレー溶射被膜生成を行うためのスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法において、当該のスプレー溶射被膜生成プロセス(過程)中、輸送コーティングされる被膜物質量ないし膜厚に対する特性量として基板(サブストレート)の表面温度を測定し、設定値からの偏差のある場合、被膜物質量ないし膜厚に対して規定的なプロセスパラメータを変化させることを特徴とするスプレー溶射被膜生成プロセスの監視及び制御方法。