特許
J-GLOBAL ID：200903031379525316
難燃性感光性樹脂組成物及び耐熱保護皮膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-143144
公開番号（公開出願番号）：特開平9-325490
出願日： 1996年06月05日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 はんだ耐熱性、可撓性、難燃性に優れた保護膜、特にフレキシブルプリント配線板用のカバーレイやソルダーレジストに好適な難燃性感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)エポキシ当量2,000〜3,000、臭素含有量50〜60重量%の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(B)ペンタメチレンカーボネート単位からなる繰り返し単位(a)とヘキサメチレンカーボネート単位からなる繰り返し単位(b)を有するコポリカーボネートと、イソホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物(C)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤(D)三酸化アンチモンを含有してなる樹脂組成物。上記組成物に更に(C)下記構造式(I)で表される光重合性化合物を配合してなる樹脂組成物。(式中、m及びnは、mとnとの合計が10になる整数である。)
請求項（抜粋）：
(A)エポキシ当量2,000〜3,000、臭素含有量50〜60重量%の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂100重量部、(B)ペンタメチレンカーボネート単位からなる繰り返し単位(a)とヘキサメチレンカーボネート単位からなる繰り返し単位(b)を有し、これら繰り返し単位のモル比、a:b、が9:1〜1:9であるコポリカーボネートと、イソホロンジイソシアネート及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物20〜100重量部、(C)活性光により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤0.5〜20重量部、並びに(D)三酸化アンチモン1〜20重量部を含有してなる難燃性感光性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/038 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/027 513
, G03F 7/031
, G03F 7/032 501
, G03F 7/30
, H05K 3/28
G03F 7/038 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/027 513
, G03F 7/031
, G03F 7/032 501
, G03F 7/30
, H05K 3/28 D
