特許
J-GLOBAL ID：200903031400185598
位相シフトフォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-186058
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043885
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 透過型位相シフトフォトマスクおいて、寸法精度よく、欠陥の少ない製造方法。【構成】 透明基板4上に隣接する2つに透明領域を有する透過型位相シフトフォトマスク12の製造方法において、透明基板4上に金属あるいは金属化合物の膜5が形成され、その上にレジスト6が塗布されたブランクを用い、レジストパターン8を形成後、そのレジストパターン8をマスクにして金属あるいは金属化合物の膜5をドライエッチングする工程と、レジストパターン8及び金属あるいは金属化合物のパターン10をマスクにして透明基板4をドライエッチングする工程とを含む。
請求項（抜粋）：
透明基板上に隣接する2つの透明領域を有する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法において、透明基板上に金属あるいは金属化合物の膜が形成され、その上にレジストが塗布されたブランクを用い、レジストパターンを形成後、そのレジストパターンをマスクにして前記金属あるいは金属化合物の膜をドライエッチングする工程と、レジストパターン及び金属あるいは金属化合物のパターンをマスクにして前記透明基板をドライエッチングする工程とを含むことを特徴とする位相シフトフォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
