特許

J-GLOBAL ID：200903031411846359

試料昇降装置

発明者： 杉山 久嵩 ,  林 信吾 ,  大村 信久
出願人/特許権者： 東芝機械株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-220734
公開番号（公開出願番号）：特開平9-064158
出願日： 1995年08月29日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【課題】 軸部14A、アーム14B、ピン15を備え、雰囲気制御される処理室内に収容されたシリコンウエハ等の平板状の試料を、下方から前記ピンで支持して試料を昇降させる試料昇降装置において、ピンの衝撃強度、及びアームの投影面積を改善する。【解決手段】 本発明に基づく試料昇降装置は、処理室の床面の中心部を貫通する昇降シャフト13の上端に取り付けられて、処理室内に位置し、軸部14Aの上端から放射状に伸びる耐熱性の金属で製作された複数のアーム14Bと、各アームの先端を曲げ加工して形成されたピン15とを備える。また必要に応じ、ピン15の先端に石英又はセラミックスのコーティングを施すか、あるいは、セラミックス製のチップを取り付ける。

請求項（抜粋）：

雰囲気制御された処理室の床面の中心部を貫通する昇降可能なシャフトと、処理室内に位置し、前記シャフトの上端から放射状に伸びる複数の耐熱性の金属からなるアームと、各アームの先端付近に上向きに取り付けられた耐熱性の金属からなるピンとを備え、処理室内に収容された平板状の試料を、下方から前記ピンで支持して試料を昇降させる試料昇降装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  C23C 16/44 ,  F27B 5/14 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

H01L 21/68 N ,  C23C 16/44 G ,  F27B 5/14 ,  H01L 21/205