特許

J-GLOBAL ID：200903031419065739

トランス-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造方法

発明者： 伊藤 博 ,  岩村 泰一郎 ,  中澤 幹郎
出願人/特許権者： 新日本理化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-368293
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191602
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【目的】 副反応が少なく、装置の腐食性の心配のない触媒系を採用することにより、生産性に優れ、工業的に実用性のあるトランス-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造プロセスを確立することを目的とする。【構成】 本発明に係るトランス-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造方法としては、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルのシス体を異性化してトランス体を製造するに際し、触媒として塩基性金属酸化物又は塩基性複合金属酸化物を用いることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルのシス体を異性化してトランス体を製造するに際し、触媒として塩基性金属酸化物又は塩基性複合金属酸化物を用いることを特徴とするトランス-1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 69/75 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/02 ,  C07C 67/333 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 69/75 Z ,  B01J 21/06 X ,  B01J 23/02 X ,  C07C 67/333 ,  C07B 61/00 300

Fターム (12件)：

4H006AA02 ,  4H006AC27 ,  4H006BA06 ,  4H006BA07 ,  4H006BA10 ,  4H006BA30 ,  4H006BA33 ,  4H006BD10 ,  4H006BJ20 ,  4H006KA31 ,  4H039CA66 ,  4H039CJ10