特許
J-GLOBAL ID：200903031423303539
膜厚測定方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-248659
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090371
出願日： 1991年09月27日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】レジスト塗布後の放置時間を待たずに安定した状態の膜厚が測定出来る。【構成】時間によってレジストの溶剤が蒸発して変化する膜厚経時変化データをあらかじめ入力する入力部6と、測定時のデータと前記膜厚経時変化データとから膜厚を算出するデータ解析部5とを設け、溶剤が完全に蒸発したときのレジストの膜厚を出力部7より出力する。
請求項（抜粋）：
溶剤の蒸発によるレジスト膜の膜厚経時変化データをあらかじめ入力する工程と、レジスト膜に光を照射し、反射する分光強度を測定する工程と、波長毎の分光強度により前記レジスト膜の膜厚を求める工程と、この求められた膜厚データと前記膜厚経時変化データとにより前記溶剤の全てが蒸発したときの前記レジスト膜の膜厚を算出する工程とを含んでいることを特徴とする膜厚測定方法。
IPC (2件)：
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