特許

J-GLOBAL ID：200903031437976846

半導体デバイス製造プロセス用および液晶デバイス製造プロセス用洗浄剤

発明者： 矢田 隆司 ,  肥沼 豊 ,  福村 和則 ,  福村 嘉仁
出願人/特許権者： 岸本産業株式会社 ,  大塚化学株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-339342
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106793
出願日： 1997年11月25日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】【課題】 環境面、作業面等で安全性が高く、また、効率よく、しかも、金属腐食等の問題もなく、半導体デバイス製造プロセスおよび液晶デバイス製造プロセスのうち少なくとも一方のプロセスにおける金属(半金属も含む)やガラス表面のエッチング残留物や不純物等の洗浄を行える半導体デバイス製造プロセス用および液晶デバイス製造用洗浄剤を提供する。【解決手段】 オルトリン酸と尿素との反応生成物であるポリリン酸-尿素縮合体またはリン酸-尿素ポリマーを有効成分とする洗浄剤とし、半導体デバイス製造プロセスおよび液晶デバイス製造プロセスのうちの少なくとも一方のプロセスにおける金属および/またはガラス表面の洗浄に用いる。

請求項（抜粋）：

オルトリン酸と尿素との反応生成物であるポリリン酸-尿素縮合体またはリン酸-尿素ポリマーを有効成分とする半導体デバイス製造プロセス用および液晶デバイス製造プロセス用洗浄剤。

IPC (3件)：

C11D 7/36 ,  C09K 13/06 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

C11D 7/36 ,  C09K 13/06 ,  H01L 21/304 341 L