特許

J-GLOBAL ID：200903031442748525

ガス処理装置およびそれに用いられる原料供給系のパ-ジ機構

発明者： ブザン バンソン ,  久保 謙一 ,  池田 恭子 ,  吉川 秀樹
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-004833
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204472
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】 開閉バルブと気化器の間を近接させることが可能なガス処理装置およびパージ効率を高くすることができる原料供給系のパージ機構を提供すること。【解決手段】 半導体ウエハWに対して成膜処理を施すためのチャンバー1と、液体原料を前記処理部に向けて送出する原料供給源2と、原料供給源2とチャンバー1との間に設けられた原料配管3と、液体原料の供給途中で前記液体原料を気化させチャンバーに反応ガスを供給する気化器4と、気化器の上流側の原料配管3に設けられ、原料配管3を開閉するための開閉バルブ32と、開閉バルブが閉じられた際に、原料配管3の気化器と開閉バルブ32との間の開閉バルブ32に近接した部分に、その部分の液体原料をパージするパージガスを供給するパージガス配管35と、パージガス配管35を開閉するパージガスバルブ36と、気化器4と開閉バルブ32との間を断熱する断熱壁34とを具備する。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して所定のガス処理を施すための処理部と、液体原料を前記処理部に向けて送出する原料供給源と、原料供給源と処理部との間に設けられた原料配管と、前記液体原料の供給途中で前記液体原料を気化させ処理部にガスを供給する気化器と、前記気化器の上流側の配管に設けられ、前記原料配管を開閉するための開閉バルブと、前記開閉バルブが閉じられた際に、前記原料配管の前記気化器と前記開閉バルブとの間の部分に、その部分の液体原料をパージするパージガスを供給するパージガス配管と、パージガス配管を開閉するパージガスバルブと、前記気化器と前記開閉バルブとの間を断熱する断熱手段とを具備することを特徴とするガス処理装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/285

FI (2件)：

C23C 16/44 D ,  H01L 21/285 C

Fターム (18件)：

4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA01 ,  4K030CA12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030KA05 ,  4K030KA23 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104GG13 ,  4M104HH20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 液体原料の気化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-324637   出願人：株式会社荏原製作所
• 特開平3-004928
  
• 特開昭64-000268