特許

J-GLOBAL ID：200903031464257096

フォトマスク及びフォトマスクの製造方法

発明者： 潮田 淳
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 松浦 兼行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-077217
公開番号（公開出願番号）：特開平9-269590
出願日： 1996年03月29日
公開日（公表日）： 1997年10月14日
要約：

【要約】【課題】 ハーフトーン位相シフトマスクの透過光のサイドローブにより、レジストに不必要なパターンや膜べりが形成され、デバイスに支障をきたし、また、不必要パターンを解像している。【解決手段】 開口部30を透過した光に対して、開口部31を透過した振幅41の光は、透明位相シフトシフタ21により位相が180°反転されており、ハーフトーン位相シフトシフタ20と透明位相シフトシフタ21とが重なり合った領域32では360°の位相である。このため、ハーフトーン位相シフトマスクとしての効果をそのままに、隣り合う開口部30及び31の透過光の位相は互いに180°異なる。このため、開口部30、31の透過光の光強度60は大であり、一方、開口部30、31で生じたサイドローブは互いに打ち消され、72で示す如くサイドローブの発生を大幅に減少させることができる。

請求項（抜粋）：

入射される露光光に対して透明な第1及び第2の領域と、半透明な第3及び第4の領域を少なくとも有し、前記第1及び第2の領域を透過した光の位相差は互いにほぼ180°、前記第1及び第3の領域を透過した光の位相差は互いにほぼ180°、前記第1及び第4の領域を透過した光の位相差は互いにほぼ0°であり、該第1乃至第4の領域を透過した光を用いて投影露光を行うことを特徴とするフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光用マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-122815   出願人：株式会社東芝
• 位相シフトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-026484   出願人：ソニー株式会社