特許

J-GLOBAL ID：200903031464659461

エッチマスクの特徴部の限界寸法の低減

発明者： ホアン・ジソング ,  サジャディ・エス.エム.・レザ ,  マークス・ジェフリー
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレーション
代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-546765
公開番号（公開出願番号）：特表2008-524851
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：

【課題】【解決手段】第一の限界寸法を有すると共に側壁を備えたエッチマスク特徴部を有するエッチマスクをエッチ層上に有するエッチスタック内で、エッチ層に特徴部を形成する方法を提供する。第一の限界寸法未満の第二の限界寸法を有する堆積層特徴部を形成するために、周期的限界寸法低減を実行する。各周期は、エッチマスク特徴部の、垂直な側壁を含む露出面に、堆積層を堆積させるための堆積段階、及び垂直な側壁上に選択的堆積を残して堆積層をエッチバックするためのエッチング段階を含む。第一の限界寸法未満の第三の限界寸法を有するエッチ層特徴部がエッチ層内にエッチングされる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

第一の限界寸法を有すると共に側壁を備えたエッチマスク特徴部を有するエッチマスクをエッチ層上に有するエッチスタック内で、エッチ層に特徴部を形成する方法であって、 前記第一の限界寸法未満の第二の限界寸法を有する堆積層特徴部を形成するために周期的な限界寸法低減を行うステップであって、各周期が 垂直な側壁を含む前記エッチマスク特徴部の、垂直な側壁を含む露出面に、堆積層を堆積させるための堆積段階、及び 前記垂直な側壁上に選択的堆積を残して前記堆積層をエッチバックするためのエッチング段階を含む、 ステップと、 前記第一の限界寸法未満の第三の限界寸法を有するエッチ層特徴部を、前記エッチ層内にエッチングするステップと、 を備える方法。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/768

FI (3件)：

H01L21/302 105A ,  H01L21/90 A ,  H01L21/302 101B

Fターム (28件)：

5F004AA16 ,  5F004BA09 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB20 ,  5F004CA08 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA15 ,  5F004DA16 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F004EA03 ,  5F004EA11 ,  5F004EA13 ,  5F004EB01 ,  5F004EB04 ,  5F033MM02 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ02 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ11 ,  5F033QQ26 ,  5F033QQ37 ,  5F033WW01 ,  5F033XX03