特許

J-GLOBAL ID：200903031471819474

ポジ型レジスト組成物

発明者： 漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-247229
公開番号（公開出願番号）：特開2003-057825
出願日： 2001年08月16日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 疎密依存性及び露光ラチチュードに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び特定のジ又はトリヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を各々有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、特定の窒素化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)溶剤及び(D)下記一般式(IA)で表される窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R23とR24は、互いに結合して環を形成していてもよい。)【化2】一般式(IA)において、R1a〜R4aは、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表す。R1a〜R4aの内の2つが結合して窒素原子とともに環を形成してもよい。R5a-は、アニオン部を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (30件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AM05Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA14P ,  4J100BA15P ,  4J100BA20P ,  4J100BC02P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38