特許

J-GLOBAL ID：200903031483068504

局所真空式レーザ溶接機

発明者： 中島 透
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 小橋川 洋二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-112025
公開番号（公開出願番号）：特開平9-271979
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】 シールドガスやアシストガスを用いず、しかも局所真空式電子ビーム溶接の如き高真空度、大きな真空領域をならない局所真空式レーザ溶接機を提供する。【解決手段】 レーザ光3が通る中空ノズル本体2の先端に封止材4を備え、その基端側をシールドガラス11で封止し、このシールドガラス11と中空ノズル本体2の先端との間に通排気管を連通させた。被溶接物5の溶接箇所に対して封止材4を当接させた後、排気弁8を開き排気装置10により溶接位置周囲を一定の低真空とする。そして、低真空環境にてレーザ溶接を行うことにより、大気中より一層深溶け込みの高精度溶接を行うことができる。溶接箇所周囲の排気量が少なくしかも例えば10-1Torr以下の低真空であるので、ベント(通気)と排気のサイクルタイムが短時間で済み、酸化や金属プラズマの発生を抑えた良好な深溶け込みを達成することができる。

請求項（抜粋）：

中空ノズルの先端の被溶接物対向面に封止材を供えると共に前記中空ノズルの先端より基端側にてこの中空ノズルを塞ぐようにシールドガラスを気密封止し、前記中空ノズルの先端とシールドガラスの封止部分との間の前記中空ノズルに通排気弁及び排気装置を供えた通排気管を連通させたことを特徴とする局所真空式レーザ溶接機。

IPC (3件)：

B23K 26/12 ,  B23K 26/00 310 ,  B23K 26/14

FI (3件)：

B23K 26/12 ,  B23K 26/00 310 A ,  B23K 26/14 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 減圧レーザ加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238727   出願人：三菱重工業株式会社