ラスタ要素を有する光学装置、及びこの光学装置を有する照射システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤田和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-304598
公開番号（公開出願番号）：特開2007-150295
出願日： 2006年11月09日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：

【課題】フィールド開口絞りが配置された中間フィールド面を投影するための複雑で高価なシステムを必要とすることなく、照射面がその位置を変えることができる光学装置を提供すること。【解決手段】光学装置は、第1軸(110)を有する少なくとも1つの第1ラスタ要素(102)を備えた第1光学要素(100)と、第2軸(112)を有する少なくとも1つの第2ラスタ要素(106)を備えた第2光学要素(104)とを有する。第1ラスタ要素は、第1軸と第2軸との間の距離が可変となるように、第2ラスタ要素に対してその位置を変えることができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照射システムに用いられる光学装置であって、第1軸(110、310、510、3012)を有する少なくとも1つの第1ラスタ要素(102、302、502、3010.1)を備えた第1光学要素(100、300、500、3002)と、第2軸(112、312、512、3022)を有する少なくとも1つの第2ラスタ要素(106、306、506、3020.2)を備えた第2光学要素(104、304、504、3202)とを具備し、前記第1ラスタ要素は、前記第1軸と前記第2軸との間の距離(ABST、ABST1)が可変となるように、前記第2ラスタ要素に対してその位置を変えることができる光学装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G02B 13/00 , G02B 17/08

FI (5件)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521 , H01L21/30 531A , G02B13/00 , G02B17/08 Z

Fターム (18件)：

2H087KA21 , 2H087KA29 , 2H087NA04 , 2H087NA11 , 2H087RA26 , 2H087TA01 , 2H087TA02 , 5F046BA04 , 5F046CB02 , 5F046CB05 , 5F046CB13 , 5F046CB14 , 5F046CB23 , 5F046DA01 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GB02

引用特許：

出願人引用 (13件)

米国特許第5,731,577号
米国特許第6,704,095号
国際公開第01/09681号

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