特許

J-GLOBAL ID：200903031498095818

露光方法及び露光装置

発明者： 杉田 充朗
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-201343
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021762
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 周期パターンの露光と通常のパターン露光の2重露光によって任意形状の高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 光源手段からの露光光で照明光学系によって所定形状の照明領域を照明し、該照明領域に設けたマスクのパターンを投影光学系で感光基板に投影する露光方法において、該マスクは光透過部分で構成される複数の基本パターンを繰り返し配置した繰り返しパターンを有し、該繰り返しパターンの隣接する透過部分は互いに略180度の光学的な位相差を有しており、該マスクのパターンで照明光学系の照明条件及び投影光学系の瞳面上の光透過条件を変えて該感光基板上を多重露光していること。

請求項（抜粋）：

光源手段からの露光光で照明光学系によって所定形状の照明領域を照明し、該照明領域に設けたマスクのパターンを投影光学系で感光基板に投影する露光方法において、該マスクは光透過部分で構成される複数の基本パターンを繰り返し配置した繰り返しパターンを有し、該繰り返しパターンの隣接する透過部分は互いに略180度の光学的な位相差を有しており、該マスクのパターンで照明光学系の照明条件及び投影光学系の瞳面上の光透過条件を変えて該感光基板上を多重露光していることを特徴とする露光方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (4件)：

5F046AA13 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB13