特許

J-GLOBAL ID：200903031498491578

含フッ素アミド化合物

発明者： 佐藤 伸一 ,  小池 則之 ,  松田 高至 ,  山本 靖
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-027297
公開番号（公開出願番号）：特開平8-198926
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)で示される含フッ素アミド化合物。【化1】[但し、式中R1は置換又は非置換の一価炭化水素基、R2は水素原子又は置換又は非置換の一価炭化水素基、Qは下記一般式(2)又は下記一般式(3)で示される基、R3は結合途中に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の1種又は2種以上を介在させてもよい置換又は非置換の二価炭化水素基、R4及びR5は置換又は非置換の二価炭化水素基を示し、Rfは二価のパーフルオロアルキレン基又は二価のパーフルオロポリエーテル基であり、aは0以上の整数である。]【化2】【効果】 本発明の含フッ素アミド化合物は、フッ素含有率が高く、表面エネルギーが低いエラストマーあるいは樹脂となり得るもので、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性のゴム材料用素材、離型剤用素材などとして有効である。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される含フッ素アミド化合物。【化1】[但し、式中R1は置換又は非置換の一価炭化水素基、R2は水素原子又は置換又は非置換の一価炭化水素基、Qは下記一般式(2)又は下記一般式(3)で示される基【化2】(但し、式中R3は結合途中に酸素原子、窒素原子及びケイ素原子の1種又は2種以上を介在させてもよい置換又は非置換の二価炭化水素基を示す。)【化3】(但し、式中R4及びR5は置換又は非置換の二価炭化水素基を示す。)、Rfは二価のパーフルオロアルキレン基又は二価のパーフルオロポリエーテル基であり、aは0以上の整数である。]

IPC (7件)：

C08F299/02 MRR ,  C07F 7/12 ,  C08F 30/08 MNU ,  C08G 77/00 NUA ,  C08K 5/54 KCD ,  C08L 83/07 LRP ,  C08L 83/08 LRN