特許

J-GLOBAL ID：200903031499166220

光学基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法

発明者： 山中 英雄
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-216995
公開番号（公開出願番号）：特開平10-062604
出願日： 1996年08月19日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】 簡単な工程でアライメントマークを形成すること。【解決手段】 本発明は、ガラス基板1の表面にフォトレジスト2で覆われる部分とフォトレジスト2で覆われないでガラス基板1の表面が露出する部分とを形成する工程と、フォトレジスト2をマスクとしてガラス基板1の表面が露出する部分を加工してレンズ部Rを形成していく工程と、加工によってレンズ部Rが完成するまでの間に、レンズ部Rを形成するためのマスクになるフォトレジスト2を完全に除去するとともに、レンズ部Rを形成するためのマスクにならないフォトレジスト2’を残してアライメントマーク部AMとする工程とから成る。

請求項（抜粋）：

透光性基板の表面に保護膜で覆われる部分と該保護膜で覆われないで該透光性基板の表面が露出する部分とを形成する工程と、前記保護膜をマスクとして前記透光性基板の表面が露出する部分を加工して光学部分を形成していく工程と、前記加工によって前記光学部分が完成するまでの間に、該光学部分を形成するためのマスクになる保護膜を完全に除去するとともに、該光学部分を形成するためのマスクにならない保護膜を残しておく工程とから成ることを特徴とする光学基板の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 3/00 ,  G02B 5/04 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 360

FI (5件)：

G02B 3/00 A ,  G02B 5/04 Z ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 360 N