特許

J-GLOBAL ID：200903031499260758

金属研磨組成物及び研磨方法

発明者： 上田 和正
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-222648
公開番号（公開出願番号）：特開2003-037086
出願日： 2001年07月24日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：

【要約】【課題】金属を高速に研磨し、研磨表面への傷の発生を抑制し、エッチングを抑制し得る金属研磨組成物、及び該研磨組成物を用いる金属の研磨方法を提供する。【解決手段】〔1〕金属イオンを捕捉する官能基を有する粒子、酸化剤、硝酸塩及び水を含有してなる金属研磨組成物。〔2〕更に、球状粒子、ベンゾトリアゾール及びベンゾトリアゾール誘導体からなる群から選ばれた少なくとも1種を含む前記〔1〕に記載の金属研磨組成物。〔3〕前記〔2〕記載の金属研磨組成物を用い、化学的機械研磨により研磨することを特徴とする金属の研磨方法。

請求項（抜粋）：

金属イオンを捕捉する官能基を有する粒子、酸化剤、硝酸塩及び水を含有してなることを特徴とする金属研磨組成物。

IPC (4件)：

H01L 21/304 622 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 Z ,  H01L 21/306 M

Fターム (11件)：

3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5F043AA26 ,  5F043BB18 ,  5F043DD16 ,  5F043GG02 ,  5F043GG10