特許
J-GLOBAL ID:200903031508848070
エッチストップ層を具備した集積回路における金属被覆部およびコンタクト構造の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-181510
公開番号(公開出願番号):特開2002-016140
出願日: 2001年06月15日
公開日(公表日): 2002年01月18日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、エッチストップ層を備えた集積回路の半導体相互接続部を効率よく製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 半導体基体と、ゲート構造と、それに隣接する誘電体スペーサと、それらの層上のコンタクト誘電体層1 と、コンタクト誘電体層1 上のエッチストップ層14と、このエッチストップ層14上のトレンチ誘電体層4 とを備えている複合構造のトレンチ誘電体層4 をエッチストップ層14を実質上エッチングしないエッチング条件下でエッチングしてトレンチを形成し、エッチングによりエッチストップ層14とコンタクト誘電体層1 に開口を形成し、この開口とトレンチ中に導電性材料11を付着することを特徴とする。
請求項(抜粋):
a)複合構造のトレンチ誘電体層をエッチングし、その複合構造は、i)アクティブ領域を有する半導体基体と、ii)その上のゲート構造と、iii )前記ゲート構造に隣接する少なくとも1つの誘電体スペーサと、iv)前記半導体基体、前記ゲート構造、前記誘電体スペーサ上のコンタクト誘電体層と、v)前記コンタクト誘電体層上のエッチストップ層と、vi)前記エッチストップ層上のトレンチ誘電体層とを具備し、前記エッチストップ層を実質上エッチングしないエッチング条件下で前記トレンチ誘電体層にトレンチを形成し、b)前記アクティブ領域と前記誘電体スペーサの一部分とを露出するために前記ゲート構造を実質上損傷しない条件下でエッチングすることにより前記エッチストップ層と前記コンタクト誘電体層に開口を形成し、c)前記開口と前記トレンチ中に導電性材料を付着するステップを有する集積回路に金属被覆部およびコンタクト構造を形成する方法。
IPC (4件):
H01L 21/768
, H01L 21/28
, H01L 21/3065
, H01L 21/3205
FI (4件):
H01L 21/28 L
, H01L 21/90 C
, H01L 21/88 K
, H01L 21/302 J
Fターム (119件):
4M104AA01
, 4M104AA02
, 4M104AA05
, 4M104BB01
, 4M104BB03
, 4M104BB04
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB07
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, 4M104BB14
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, 4M104DD04
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, 4M104HH14
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, 5F033WW02
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