レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-032490
公開番号（公開出願番号）：特開平6-230573
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】【目的】解像度およびパターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比を達成できるをとともに、現像性、基板との密着性等も良好で、高密度実装に対応可能な優れた特性バランスを有し、かつ環境等にも問題がない水あるいは希アルカリ水により現像可能である新規レジスト組成物を提供する。【構成】レジスト組成物は、(1)カルボキシル基含有架橋粒子、(2)脂肪族アミノ基含有化合物および/またはN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミド、(3)他の光重合性の単量体および/またはオリゴマー並びに(4)光重合開始剤を含有する。

請求項（抜粋）：

(1)カルボキシル基含有架橋粒子100重量部、(2)脂肪族アミノ基含有化合物および/またはN,N-ジ置換(メタ)アクリルアミド5〜100重量部、(3)他の光重合性の単量体および/またはオリゴマー5〜200重量部並びに(4)光重合開始剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/027 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , H05K 3/00

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平3-228060
特開昭63-008648
特開昭63-017903

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