特許

J-GLOBAL ID：200903031515453561

紫外線による硬化方法及び装置

発明者： 梅木 和博 ,  藤原 克彦
出願人/特許権者： リコー光学株式会社
代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-138103
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316485
出願日： 2000年05月11日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 基板上に形成された厚みのある高分子材料層のパターンを硬化させる。【解決手段】 真空チャンバー2内に基板ホルダー4が設けられ、基板ホルダー4は、表面側に高分子材料層パターンが形成された透明ガラス基板6を、その高分子材料層パターンが上向きになるように、基板6の周辺部で保持する。真空チャンバー2の下部には、紫外線を照射するUVランプ22と赤外線を照射する赤外線ランプ24とが配置されており、それらのランプ22,24からの光は真空チャンバー2の下面の入射窓を介して入射し、高分子材料層を硬化させる。

請求項（抜粋）：

透明ガラス基板の表面側に形成されパターニングされた高分子材料層を硬化させる方法において、減圧下で、前記高分子材料層を硬化させうる波長域の紫外線と加熱用赤外線を前記透明ガラス基板の裏面側から照射することを特徴とする硬化方法。

IPC (7件)：

C08J 3/28 CER ,  C08J 3/28 CEZ ,  C03C 15/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G03F 7/20 502 ,  C08L101:00

FI (7件)：

C08J 3/28 CER ,  C08J 3/28 CEZ ,  C03C 15/00 D ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/08 ,  G03F 7/20 502 ,  C08L101:00

Fターム (14件)：

2H097BA02 ,  2H097CA12 ,  2H097CA13 ,  2H097LA15 ,  4F070AA11 ,  4F070AA41 ,  4F070GA04 ,  4F070GC09 ,  4G059AA08 ,  4G059AB06 ,  4G059AB09 ,  4G059AC01 ,  4G059BB01 ,  4G059BB13