特許
J-GLOBAL ID：200903031550081634
Ta製スパッタリングタ-ゲットとその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
今井 毅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079055
公開番号（公開出願番号）：特開平6-264232
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：
【要約】【目的】 Ta製スパッタリングタ-ゲットを用いたスパッタリングにて、均一で高性能の薄膜を安定して得られる手立てを確立する。【構成】 Ta製スパッタリングタ-ゲットを、合計のガス成分含有量が100ppm以下で、かつ平均結晶粒径が1mm以下であるところの溶製したTaの塑性加工材にて構成する。また、このTa製スパッタリングタ-ゲットを製造するため、合計のガス成分含有量が100ppm 以下であるTa鋳塊を加工率:90%以上で冷間鍛造した後、0.1mmbar以下の真空中にて加熱温度:900〜1300°Cで熱処理し再結晶させる工程を採用する。
請求項（抜粋）：
合計のガス成分含有量が100ppm 以下で、かつ平均結晶粒径が1mm以下であるところの、溶製したTaの塑性加工材から成ることを特徴とするTa製スパッタリングタ-ゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C22C 27/02 103
, C22F 1/18
