特許
J-GLOBAL ID:200903031557396100
反射防止積層体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-365981
公開番号(公開出願番号):特開2005-202389
出願日: 2004年12月17日
公開日(公表日): 2005年07月28日
要約:
【課題】 透明性、表面硬度、耐擦傷性、密着性、帯電防止性、生産性のいずれにも優れ、色ムラの抑えられた反射防止積層体。【解決手段】 透明な支持体1、ハードコート層2、導電層3、及び反射防止層4を有する反射防止積層体において、導電層が一般式(I)RxSi(OR)4-x(但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスと、粒径1〜100nmの導電性微粒子とを含有し、かつ、式(II)nd=λ/2[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たし、支持体の屈折率と前記ハードコート層の屈折率との差、及び前記ハードコート層の屈折率と前記導電層の屈折率との差をいずれも4%以下とした。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
透明な支持体、ハードコート層、導電層、及び反射防止層を有する反射防止積層体において、
前記導電層が一般式(I)RxSi(OR)4-x(但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦3を満たす整数である)で示されるケイ素アルコキシドの加水分解物を含むバインダマトリックスと、粒径1〜100nmの導電性微粒子とを含有し、かつ、式(II)nd=λ/2[但し、nは導電層の屈折率、dは導電層の膜厚、λは光の波長(nm)を示し、500≦λ≦600を満たす数である]を満たし、
前記支持体の屈折率と前記ハードコート層の屈折率との差、及び前記ハードコート層の屈折率と前記導電層の屈折率との差がいずれも4%以下であることを特徴とする反射防止積層体。
IPC (6件):
G02B1/11
, B32B7/02
, B32B27/00
, G02B1/10
, G02B5/30
, G09F9/00
FI (6件):
G02B1/10 A
, B32B7/02 103
, B32B27/00 101
, G02B5/30
, G09F9/00 313
, G02B1/10 Z
Fターム (51件):
2H049BA02
, 2H049BB65
, 2H049BB67
, 2H049BC22
, 2K009AA02
, 2K009AA15
, 2K009CC03
, 2K009CC09
, 2K009CC24
, 2K009CC26
, 2K009DD02
, 2K009EE03
, 4F100AA29C
, 4F100AA29H
, 4F100AH06C
, 4F100AH06K
, 4F100AK52C
, 4F100AK52K
, 4F100AR00A
, 4F100AR00B
, 4F100AR00C
, 4F100AR00D
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10D
, 4F100CA23C
, 4F100DE01C
, 4F100DE01H
, 4F100GB41
, 4F100JG01C
, 4F100JG01H
, 4F100JG04
, 4F100JK06
, 4F100JK12
, 4F100JK12B
, 4F100JL06
, 4F100JN01A
, 4F100JN06D
, 4F100JN08
, 4F100JN18C
, 4F100YY00C
, 5G435AA01
, 5G435AA09
, 5G435AA11
, 5G435GG32
, 5G435GG43
, 5G435HH03
, 5G435HH12
, 5G435HH18
, 5G435KK07
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (15件)
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