特許
J-GLOBAL ID：200903031563329694
セラミック基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-088759
公開番号（公開出願番号）：特開平7-290438
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：
【要約】【目的】 セラミック基板の反りを低減し、レジスト露光用マスクフィルムとの密着性を上げてレジストパターン露光不良を防止し、割れ不良を防止できるセラミック基板の製造方法を提供する。【構成】 ブレークライン2を形成した後で焼成するセラミック基板1の製造方法において、ブレークライン2を備える面と反対側の面に上記ブレークライン2の外側端ライン2aよりセラミック基板1の外周1aに近接する外方にV溝3を焼成前に形成する。また、ブレークライン2を備える面と反対側の面に上記ブレークライン2と対向する位置にV溝3を焼成前に形成する。
請求項（抜粋）：
ブレークライン(2)を形成した後で焼成するセラミック基板(1)の製造方法において、ブレークライン(2)を備える面と反対側の面に上記ブレークライン(2)の外側端ライン(2a)よりセラミック基板(1)の外周(1a)に近接する外方にV溝(3)を焼成前に形成することを特徴とするセラミック基板の製造方法。
IPC (3件)：
B28B 11/14
, H05K 1/02
, H05K 1/03
