特許
J-GLOBAL ID：200903031566839103
光学薄膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-015899
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211201
出願日： 1995年02月02日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【目的】 スパッタリング法により形成でき、少ない層数で十分な光学特性を有する光学薄膜を得る。【構成】 シリコーンからなるターゲット、またはシリコーンと金属フッ化物との混合物からなるターゲットを用いる。このターゲットをスパッタリングすることにより基板上に光学薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
シリコーンからなるターゲットをスパッタリングすることにより基板上に光学薄膜を形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, C23C 14/34
, G02B 5/08
