特許

J-GLOBAL ID：200903031577038439

高分子電解質水処理剤の投与量の最適化方法

発明者： アナンザスブラ シバクマー ,  ジテンドラ シャー ,  ナラシンハ エム.ラオ ,  スコット エス.バッド
出願人/特許権者： ナルコ ケミカル カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-005908
公開番号（公開出願番号）：特開平7-204660
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】 原水の清浄化、スラッジの脱水、エマルジョン破壊、排水の脱色等に使用する水処理剤の高分子電解質の水系中の濃度を迅速に測定し、その高分子電解質の最適投与量を維持する方法を提供する。【構成】 水処理プロセスにおいて高分子電解質処理剤の投与量を最適化する方法であって、前記水処理プロセスは実質的に汚染物を含まない水系流出液を生成するために行い、A)水処理プロセスに供すべき汚染物を含む水に高分子電解質水処理剤を添加し、B)さらに、前記高分子電解質の既知量を基準に約0.001〜約750000ppmの量で、高分子電解質と反対の電荷を有する蛍光物質を前記水に添加し、C)水処理プロセスを行い、水系流出液を生成し、D)水系流出液中の蛍光物質を検出し、E)水系流出液中の帯電した蛍光物質の量に基づいて高分子電解質の投与量を調節する。

請求項（抜粋）：

水処理プロセスにおいて高分子電解質処理剤の投与量を最適化する方法であって、前記水処理プロセスは実質的に汚染物を含まない水系流出液を生成するために行い、次の過程を含んでなる方法:A.水処理プロセスに供すべき汚染物を含む水に、既知の量の高分子電解質水処理剤を添加し、B.さらに、前記高分子電解質の既知量を基準に約0.001〜約750000ppmの量で、前記高分子電解質と反対の電荷を有する蛍光物質を前記水に添加し、C.水処理プロセスを行い、水系流出液を生成し、D.水系流出液中の蛍光物質を検出し、E.水系流出液中の帯電した蛍光物質の量に基づいて前記高分子電解質の投与量を調節する。

IPC (2件)：

C02F 1/56 ZAB ,  B01D 21/01 110