特許

J-GLOBAL ID：200903031578959333

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 宮下 朋之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-165357
公開番号（公開出願番号）：特開2007-335610
出願日： 2006年06月14日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：

【課題】専用マークではなく、実素子のレジストパターンを用いて露光の際のフォーカス量或いはドーズ量を管理できる技術の実現。【解決手段】レチクルを介して基板を露光する露光装置は、異なるフォーカス量及び/又は露光量で転写パターンが露光された検査用基板に対して、異なる光学条件で特徴データを計測する計測手段と、計測された前記特徴データを用いて光学条件毎にフォーカス量及び/又は露光量を演算し、前記光学条件毎に求められたフォーカス量及び/又は露光量の推定誤差を算出する誤差算出手段と、前記フォーカス量の推定誤差が最小となる光学条件及び/又は前記露光量の推定誤差が最小となる光学条件を決定する決定手段と、決定された前記光学条件で露光用基板に転写パターンを露光し、当該露光用基板から求めた露光ショットのフォーカス量及び露光量を用いて、装置の光学条件を制御する露光制御手段と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レチクルを介して基板を露光する露光装置であって、 異なるフォーカス量及び/又は露光量で転写パターンが露光された検査用基板に対して、異なる光学条件で特徴データを計測する計測手段と、 計測された前記特徴データを用いて光学条件毎にフォーカス量及び/又は露光量を演算し、前記光学条件毎に求められたフォーカス量及び/又は露光量の推定誤差を算出する誤差算出手段と、 前記フォーカス量の推定誤差が最小となる光学条件及び/又は前記露光量の推定誤差が最小となる光学条件を決定する決定手段と、 決定された前記光学条件で露光用基板に転写パターンを露光し、当該露光用基板から求めた露光ショットのフォーカス量及び露光量を用いて、装置の光学条件を制御する露光制御手段と、を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/207

FI (3件)：

H01L21/30 516D ,  H01L21/30 526B ,  G03F7/207 H

Fターム (4件)：

5F046BA03 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046DA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5976740号明細書