特許

J-GLOBAL ID：200903031580758183

レーザープラズマX線発生装置

発明者： 森久 祐司
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-329940
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160499
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 試料上でのX線の走査を簡易な構成で高精度に行うことができるレーザープラズマX線発生装置を提供する。【解決手段】 レーザー光をターゲットに照射してレーザープラズマ法によりX線を発生するレーザープラズマX線発生装置において、ターゲット5とレーザー源1との間に、ターゲット5上のレーザー光の照射位置21を変移させる光学系(集光レンズ4)を備え、この光学系4によって、ターゲット5上のレーザー光の照射位置21を変移させ、試料上のX線照射位置22を変移させて試料7上でX線を走査させる構成とする。

請求項（抜粋）：

レーザー光をターゲットに照射してレーザープラズマ法によりX線を発生するレーザープラズマX線発生装置において、ターゲットとレーザー光源との間に、ターゲット上のレーザー光の照射位置を変移させる光学系を備え、前記光学系は、ターゲット上のレーザー光の照射位置を変移させることによって試料上のX線照射位置を変移させ、試料上でX線を走査させることを特徴とするレーザープラズマX線発生装置。

IPC (3件)：

G21K 5/02 ,  H05G 2/00 ,  H01S 4/00

FI (3件)：

G21K 5/02 X ,  H01S 4/00 ,  H05G 1/00 K