特許
J-GLOBAL ID：200903031583440397

液晶表示装置の製造方法

発明者：
川渕 真嗣

川渕 真嗣 について

, 
山縣 有輔

山縣 有輔 について


出願人/特許権者：
三菱電機株式会社

三菱電機株式会社 について


代理人 (2件)： 宮田 金雄 ,  高瀬 彌平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-071670
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279775
出願日： 2003年03月17日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】1回の露光により非対称な反射面を有する反射板を制御性良く形成することができ、視認性が良く、明るい表示画像が得られる液晶表示装置を低コストで製造する方法を提供する。【解決手段】感光性材料12を露光する工程において、フォトマスク14として、矩形パターン16と、この矩形パターン16の一辺に対向して配置され、露光装置の限界解像度以下のパターン幅を有するパターンが隣接するパターン間距離が露光装置の限界解像度以下となるように複数配置されたパターンからなる主傾斜面形成用パターンR2と、を有するものを用いる。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
表示面に入射する光を反射する反射板を備えた液晶表示装置の製造方法であって、上記反射板を形成する工程が、基板上に感光性材料を形成する工程と、形成した感光性材料上にフォトマスクを配置し、このフォトマスクに向けて露光装置から光を出射し、上記フォトマスクを透過した光により上記感光性材料を露光する工程と、露光した感光性材料を現像する工程と、現像後の感光性材料上に反射層を形成する工程とを備え、 上記フォトマスクとして、矩形パターンと、この矩形パターンの一辺に対向して配置され、上記露光装置の限界解像度以下のパターン幅を有するパターンが隣接するパターン間距離が上記露光装置の限界解像度以下となるように複数配置されたパターンからなる主傾斜面形成用パターンと、を有するものを用いる液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
G02F1/1335 ,  G02B5/02 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20
FI (4件)：
G02F1/1335 520 ,  G02B5/02 C ,  G02B5/08 A ,  G03F7/20 501
Fターム (20件)：
2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA04 ,  2H042DA07 ,  2H042DA11 ,  2H042DC08 ,  2H042DD00 ,  2H042DE00 ,  2H091FA15 ,  2H091FA16 ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FC29 ,  2H091FD04 ,  2H091LA12 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12
引用特許：
審査官引用 (3件)

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