特許
J-GLOBAL ID：200903031596543683
半導体ウエハー洗浄槽
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-118898
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333903
出願日： 1993年05月21日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 被洗浄体である半導体ウエハーを全面的に、かつ確実に洗浄する半導体ウエハー洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄槽本体1の底部に洗浄液導入管2を接続し、洗浄液等入管の出口部にロート形底面構成等による洗浄液拡散装置を設け、ウエハー6を載せる第2のスノコ4に、洗浄不十分な箇所に液浄液が多量に流れるようにその径、方向を選んだ穴を形成する。
請求項（抜粋）：
洗浄槽底部に洗浄液を導入する洗浄液導入管を接続し、前記洗浄液導入管の洗浄液出口部に洗浄液拡散装置を設け、ウエハーを載せるスノコの穴の大きさと方向を、洗浄不十分な箇所に洗浄液を多量に流すように形成した半導体ウエハー洗浄槽。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/10
