特許
J-GLOBAL ID:200903031597798316

親水性ナノ多孔材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-288341
公開番号(公開出願番号):特開2001-104744
出願日: 1999年10月08日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】【課題】 吸着量が大きく、かつ、吸着・再生サイクルにおいてヒステリシス性を示さない除湿素子を作製するための素材を提供する。【解決手段】 実質的にシリカを素材とし、サブナノメーターから十数ナノメーターまでの径の均一なナノ細孔構造を有するナノ多孔材料であって、比表面積が400〜1300m2/gであり、前記ナノ細孔構造の内部表面が親水化されている。
請求項(抜粋):
実質的にシリカを素材とし、サブナノメーターから十数ナノメーターまでの径の均一なナノ細孔構造を有するナノ多孔材料であって、比表面積が400〜1300m2/gであり、前記ナノ細孔構造の内部表面が親水化されていることを特徴とする親水性ナノ多孔材料。
IPC (5件):
B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30 ,  C01B 33/12
FI (5件):
B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 A ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/30 ,  C01B 33/12
Fターム (59件):
4D052AA08 ,  4D052CB01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GA04 ,  4D052GB03 ,  4D052GB13 ,  4D052GB14 ,  4D052GB16 ,  4D052GB17 ,  4D052GB18 ,  4D052HA01 ,  4D052HA17 ,  4D052HA49 ,  4D052HB02 ,  4G066AA22B ,  4G066AA71A ,  4G066AB09D ,  4G066AB18A ,  4G066BA03 ,  4G066BA05 ,  4G066BA07 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA31 ,  4G066BA36 ,  4G066CA43 ,  4G066DA03 ,  4G066FA03 ,  4G066FA14 ,  4G066FA22 ,  4G066FA25 ,  4G066FA34 ,  4G066FA36 ,  4G066FA37 ,  4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ33 ,  4G072LL06 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072MM31 ,  4G072NN21 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT05 ,  4G072UU11

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