特許
J-GLOBAL ID：200903031598408619
臭素化ポリスチレン低分子量体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003906
公開番号（公開出願番号）：特開平8-188622
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】 成型加工温度が低い樹脂に配合した場合において、その樹脂物性を低下させることなく、なおかつ熱安定性が良好な臭素化ポリスチレン低分子量体の製造方法を提供する。【構成】 臭素化スチレンを連鎖移動剤の共存下に溶液重合することを特徴とするポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜10,000の臭素化ポリスチレン低分子量体の製造方法。
請求項（抜粋）：
臭素化スチレンを連鎖移動剤の共存下に溶液重合することを特徴とするポリスチレン換算の重量平均分子量が1,000〜10,000の臭素化ポリスチレン低分子量体の製造方法。
IPC (3件)：
C08F 12/16 MJY
, C08F 2/06 MBA
, C08F 2/38 MCN
