特許
J-GLOBAL ID:200903031619043926
3,3,5-トリメチルシクロヘキシリデンビスフェノール類の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-298204
公開番号(公開出願番号):特開2000-128820
出願日: 1998年10月20日
公開日(公表日): 2000年05月09日
要約:
【要約】 (修正有)【解決手段】一般式IIの3,3,5-トリメチルシクロヘキシリテ ゙ンヒ ゙スフェノール類の製造方法であって、酸触媒の存在下に、2-位、6-位にC1〜4のアルキル基でモノまたはシ ゙置換されてもよいフェノール類(A)と3,3,5-トリメチルシクロヘキサノン(B)をモル比A/B3〜7になる量にして、AとBとを反応(前反応)させ、Bの反応率が90モル%以上に達した後、Aおよび/または芳香族炭化水素類(C)を追加して後反応を行なう。〔R1およびR2は独立に水素またはC1〜4のアルキル基であって、R1およびR2が共にC4のアルキル基ではない。〕【効果】反応液の粘度上昇を抑制して高収率で製造できるため、連続反応フ ゚ロセスにも適用可能。
請求項(抜粋):
フェノール類と3,3,5-トリメチルシクロヘキサノンとを、酸触媒の存在下に反応させて3,3,5-トリメチルシクロヘキシリデンビスフェノール類を製造する方法において、酸触媒の存在下に、下記一般式[I]【化1】[式中、R1 およびR2 は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基であって、R1 およびR2 が共に炭素原子数4のアルキル基であることはない。]で表わされるフェノール類(A)と3,3,5-トリメチルシクロヘキサノン(B)をモル比((A)/(B))で3〜7になる量にして、該フェノール類(A)と該3,3,5-トリメチルシクロヘキサノン(B)とを反応(前反応)させ、3,3,5-トリメチルシクロヘキサノン(B)の反応率が90モル%以上に達した後、前記フェノール類(A)および/または芳香族炭化水素類(C)を追加して後反応を行なうことを特徴とする、下記一般式[II]で表わされる3,3,5-トリメチルシクロヘキシリデンビスフェノール類の製造方法;【化2】[式中、R1 およびR2 は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基であって、R1 およびR2 が共に炭素原子数4のアルキル基であることはない。]。
IPC (4件):
C07C 39/17
, B01J 27/10
, C07C 37/20
, C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 39/17
, B01J 27/10 X
, C07C 37/20
, C07B 61/00 300
Fターム (21件):
4H006AA02
, 4H006AC25
, 4H006BA28
, 4H006BA29
, 4H006BA37
, 4H006BA49
, 4H006BA52
, 4H006BA66
, 4H006BB11
, 4H006BB31
, 4H006BC10
, 4H006BC31
, 4H006BC37
, 4H006BD21
, 4H006FC22
, 4H006FC52
, 4H006FE13
, 4H039CA40
, 4H039CA41
, 4H039CD10
, 4H039CD40
引用特許:
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