特許

J-GLOBAL ID：200903031635136900

紫外線遮蔽ガラス保護膜形成用組成物および紫外線遮蔽ガラス

発明者： 三谷 真人 ,  吉井 茂晴
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-146991
公開番号（公開出願番号）：特開平5-311120
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】 紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物、及び該組成物で被覆された紫外線遮蔽ガラスの提供。【構成】 下記の一般式(I)で示される構造を少なくとも1分子中に1つ以上含み、1 H-NMRスペクトルの(δ4.3ppmにピークを持つ吸収面積)/(δ4.2〜4.8ppmにピークを持つ吸収面積)の比が0.13〜0.45の間にあり、数平均分子量が200〜100,000であるポリシラザンを必須成分として含有することを特徴とする紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物、一般式(I)【化1】および、紫外線遮断膜により被覆されたガラスの最外層に、上記の組成物を被覆してなることを特徴とする紫外線遮蔽ガラス。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)で示される構造を少なくとも1分子中に1つ含み、1 H-NMRスペクトルの(δ4.3ppmにピークを持つ吸収面積)/(δ4.2〜4.8ppmにピークを持つ吸収面積)の比が0.13〜0.45の間にあり、数平均分子量が200〜100,000であるポリシラザンを必須成分として含有することを特徴とする紫外線遮蔽ガラスの保護膜形成用組成物。一般式(I)【化1】

IPC (3件)：

C09D183/16 PMV ,  C03C 17/32 ,  B32B 17/10