特許
J-GLOBAL ID：200903031645287523
放電プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-052418
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090632
出願日： 1994年03月24日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ処理装置において、磁気中性線放電によりプラズマを生成すること及びそのプラズマの特性及び生成位置を電気的に任意に調整可能にすること。【構成】 少なくとも二つの電磁コイルまたは直線状電流棒から成る磁場発生手段(または同等の効果をもつ磁石より成る磁場発生手段)により発生された連続した磁場ゼロの位置から成る磁気中性線に沿って高周波または直流電場発生手段により放電を起させ、プラズマを発生する。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、真空チャンバ内に連続して存在する磁場ゼロの位置である磁気中性線を形成するようにした磁場発生手段と、この磁場発生手段によって真空チャンバ内に形成された磁気中性線に沿って電場を形成してこの磁気中性線に放電プラズマを発生させる電場発生手段とを設けたことを特徴とする放電プラズマ処理装置。
IPC (5件)：
C23F 4/00
, C23C 16/44
, C23C 16/50
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
