特許
J-GLOBAL ID：200903031651697210
光学用合成石英ガラス
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
浅野 豊司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093951
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287022
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：
【要約】【目的】 エキシマレーザー照射により生じる220nmの吸収帯、及び650nmの赤色発光を防止し、KrFエキシマレーザーおよびArFエキシマレーザーを長時間照射しても吸収帯の生成が無く、かつエキシマレーザーに対する透過率の低下しない安定した光学用合成石英ガラスを提供する。【構成】 四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解した合成石英ガラスにおいて、酸水素火炎の酸素と水素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の存在下で合成し、ガラス中のOH基を重量濃度で1000ppm以上含有する石英ガラスを用い、さらに水素中800°C以上で熱処理する合成石英ガラス及びその製造法。
請求項（抜粋）：
四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解した合成石英ガラスにおいて、酸水素火炎の酸素と水素の比が化学量論的必要量より過剰の水素の存在下で合成し、かつ、OH基を重量濃度で1000ppm以上含有したものを水素中で熱処理してなる光学用合成石英ガラス。
IPC (3件)：
C03B 8/04
, C03B 20/00
, G03F 1/14
