特許
J-GLOBAL ID：200903031654026260
モデルを基にしたSRAFの挿入
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-533555
公開番号（公開出願番号）：特表2009-510526
出願日： 2006年09月25日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
マスクのレイアウトデータを作り出すシステムは、特徴のパターンまたはその一部分を定義する標的のレイアウトデータと、多数の印刷特徴と多数の非印刷特徴とを含む最適化されたマスクのレイアウトパターンとを検索する。次に、1つ以上の準解像度の補助特徴(SRAF)に対するマスクのレイアウトデータが定義され、最適化されたマスクのレイアウトパターンの1つ以上の非印刷特徴を近似する。本発明は、フォトリソグラフィ処理システムにおいて使用する、レイアウトデータの準備に関し、詳細には、半導体ウェハ上に印刷されるレイアウトパターンの質を改善する解像度向上技術に関する。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハ上に特徴のパターンを作成するフォトリソグラフィの印刷システムにおいて使用するマスクのレイアウトデータを準備する方法であって、
該半導体ウェハ上に印刷される特徴のパターンを定義する標的のレイアウトデータを受信することと、
半導体ウェハ上に該特徴のパターンを作り出す最適化されたマスクのレイアウトパターンを決定することであって、該最適化されたマスクのレイアウトパターンは、印刷特徴に関するデータと多数の非印刷特徴に関するデータとを含む、ことと、
1つ以上の非印刷特徴を近似する、該マスクのレイアウトデータ内の1つ以上の準解像度の補助特徴を定義することと、
該マスクのレイアウトデータを作成するために、該準解像度の補助特徴に関するデータと、該印刷特徴に関するデータとを組み合わせることと
を包含する、方法。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/82
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
, H01L21/82 C
2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 5F064DD10
, 5F064DD50
, 5F064GG10
, 5F064HH01
, 5F064HH06
