有機シリカ多孔性膜製造のための化学気相成長方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 西山雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-105545
公開番号（公開出願番号）：特開2004-320005
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】電子デバイスに有用な有機シリカガラスおよび有機ポリマー膜とそれらの製造方法を提供する。【解決手段】有機種を含む膜の化学気相成長を増進する方法であって、反応チャンバー内に基材を供給し、反応チャンバー中に、炭素と水素の結合を有する有機前駆体と速度上昇剤とを含むガス状化学薬剤を導入し、この速度上昇剤は、酸素含有化合物、式R1OOR2を有する過酸化化合物、式R3C(O)OC(O)R4を有する過酸化合物、フッ素含有化合物、および重い不活性ガスよりなる群から選択される少なくとも1つのものであり、そして薬剤の反応を誘発しかつ基材の少なくとも一部の上に膜を被着させるのに充分なエネルギーを反応チャンバー中の化学薬剤に適用することを含む方法が提供される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式SivOwCxHyFz(この式中、v+w+x+y+z=100%、vは10〜35原子%、wは10〜65原子%、xは5〜30原子%、yは10〜50原子%、そしてzは0〜15原子%である)で表される有機シリカ多孔性膜を製造するための化学気相成長方法であって、反応チャンバー内に基材を供給すること、反応チャンバー中に、少なくとも1つの有機ケイ素前駆体、有機前駆体、および速度上昇剤を含む、ガス状の化学薬剤を導入すること、反応させて上記基材の少なくとも一部の上に、少なくとも1つの構造形成相と少なくとも1つの気孔形成相とを含む多相膜を被着させるのに充分なエネルギーを、反応チャンバー中の化学薬剤に適用すること、および、当該多相膜に含まれる気孔形成相を実質的に除去し、複数の気孔を含み誘電率が2.6以下の多孔性有機シリカ膜を提供するのに充分なエネルギー供給源に、当該多相膜を暴露すること、を含む、有機シリカ多孔性膜製造のための化学気相成長方法。

IPC (2件)：

H01L21/312 , H01L21/768

FI (2件)：

H01L21/312 C , H01L21/90 K

Fターム (21件)：

5F033QQ54 , 5F033QQ74 , 5F033QQ85 , 5F033QQ86 , 5F033QQ89 , 5F033RR21 , 5F033RR29 , 5F033SS01 , 5F033SS03 , 5F033SS11 , 5F033SS14 , 5F033SS15 , 5F033WW03 , 5F033WW04 , 5F058AC03 , 5F058AF01 , 5F058AG01 , 5F058AG07 , 5F058AG10 , 5F058AH02 , 5F058BA20

引用特許：

出願人引用 (11件)

米国特許第6054379号明細書
米国特許第4693799号明細書
米国特許第5000831号明細書

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