特許
J-GLOBAL ID:200903031660785998
インキ乾燥装置およびインキ乾燥方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-275262
公開番号(公開出願番号):特開2007-083555
出願日: 2005年09月22日
公開日(公表日): 2007年04月05日
要約:
【課題】印刷法により基材にインキを塗布して乾燥し、微細パターンを形成してカラーフィルタ等を製造するためのインキ乾燥装置またはその乾燥方法において、インキの乾燥時間を短縮し、ブランケットの膨潤を抑制し、かつ品質を保ったまま量産性を高めることができるインキ乾燥装置またはその乾燥方法を提供する。【解決手段】ブランケット2にインキ3を塗布した後、転写する前にインキ3をエアーブロア5で強制乾燥することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
印刷法により基材にインキを塗布して乾燥し、微細パターンを形成してカラーフィルタ等を製造するためのインキの乾燥方法において、ブランケットにインキを塗布した後、転写する前にインキを強制乾燥することを特徴とするインキの乾燥方法。
IPC (6件):
B41F 13/22
, F26B 13/10
, F26B 21/06
, B41F 17/14
, G02B 5/20
, B41M 1/34
FI (6件):
B41F13/22
, F26B13/10 G
, F26B21/06
, B41F17/14 E
, G02B5/20 101
, B41M1/34
Fターム (13件):
2H048BA11
, 2H048BA55
, 2H113AA01
, 2H113CA17
, 2H113CA21
, 2H113FA35
, 3L113AB01
, 3L113AC31
, 3L113AC48
, 3L113AC52
, 3L113BA32
, 3L113DA04
, 3L113DA24
引用特許:
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