特許

J-GLOBAL ID：200903031667599928

縦型炉

発明者： 鶴見 徹
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-145639
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343340
出願日： 1992年06月05日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】 縦型の反応管を具備する減圧CVD装置や拡散炉の構造の改良に関し、ウエーハ取り出し中に反応管内の反応ガスの温度が低下するのを防止し、パーティクルがウエーハの表面に付着してウエーハを汚染するのを防止することが可能となる縦型炉の提供を目的とする。【構成】 上部に反応ガスの供給口1aを備え、下部に開口1bを有し、ヒーター2により加熱されている反応管1内に、ウエーハキャリア4に収納されているウエーハ6をローダー3により下方から挿入し、このウエーハ6をこの反応管1内で熱処理する縦型炉において、このウエーハキャリア4の頂上面4aに載置する、赤外線とガスを透過させない材料からなり、この反応管1の下部の開口1bの内周に形成されている周縁部1cにより保持することが可能な遮蔽物5を具備するように構成する。

請求項（抜粋）：

上部に反応ガスの供給口(1a)を備え、下部に開口(1b)を有し、ヒーター(2) により加熱されている反応管(1) 内に、ウエーハキャリア(4) に収納されているウエーハ(6) をローダー(3) により下方から挿入し、前記ウエーハ(6) を前記反応管(1) 内で熱処理する縦型炉において、前記ウエーハキャリア(4) の頂上面(4a)に載置する、赤外線とガスを透過させない材料からなり、前記反応管(1) の下部の開口(1b)の内周に形成されている周縁部(1c)により保持することが可能な遮蔽物(5) を具備することを特徴とする縦型炉。