特許
J-GLOBAL ID：200903031670925119
露光装置及びパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-305687
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163364
出願日： 1992年11月16日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】位相シフトマスクを用いてフォトレジストを露光する露光装置と、そのような露光工程を含む露光装置及びパターン形成方法に関し、位相シフトマスクを使用する場合の解像度及び焦点深度を向上すること。【構成】位相シフトマスクを使用してパターンを形成する際の露光光源として、線状光源、離散した複数の点光源、楕円光源を使用することを含む。
請求項（抜粋）：
位相シフトマスク(41、42)を用いてフォトレジスト(6)を露光するため光源(1)として、線状の光源か、離散した複数の光点を有する光源か、又は楕円状の光源のいずれかを有することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20 521
