特許
J-GLOBAL ID：200903031673852163
プロセスシミュレーション用モデルパラメータ決定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-057261
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244210
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】計算時間が短く、かつ精度良く半導体プロセスシミュレーションのモデルパラメータフィッテングを行うことができるプロセスシミュレーション用モデルパラメータ決定方法を提供する。【解決手段】 温度に依存するモデルを用いた計算結果と実測値が合うようにモデルパラメータ値を決定する方法であって、温度領域を分割する工程302と、分割した各温度領域において、モデルパラメータ値を一温度点で決定する工程303と、一温度領域内の全温度で合うように微調整する工程304、306、もしくは計算結果と実測の重み付き誤差の複数温度点での総和を最小化するよう最適化計算する工程308を含む。
請求項（抜粋）：
温度に依存するモデルを用いた計算結果と実測値が合うように前記モデルのモデルパラメータ値を一温度点で決定する工程と、この工程により決定した前記モデルパラメータ値を用いた別の温度点での計算結果と実測値が合うように、前記モデルパラメータ値の決定に用いた前記一温度点での前記モデルパラメータ値を微調整する工程を含むプロセスシミュレーション用モデルパラメータ決定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/22 Z
, H01L 21/00
