特許
J-GLOBAL ID:200903031680893754
高減衰ゴム組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-234192
公開番号(公開出願番号):特開2007-045998
出願日: 2005年08月12日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 ヒステリシスロスが大きく、使用時に良好な作業性を発揮し得るゴム組成物を提供する。【解決手段】 少なくともゴム成分と芳香族オリゴマーとを含む高減衰ゴム組成物であって、前記芳香族オリゴマーが、その少なくとも一方の末端に2以上の水酸基を有することを特徴とする高減衰ゴム組成物である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
少なくともゴム成分と芳香族オリゴマーとを含む高減衰ゴム組成物であって、
前記芳香族オリゴマーが、その少なくとも一方の末端に2以上の水酸基を有することを特徴とする高減衰ゴム組成物。
IPC (6件):
C08L 21/00
, C08K 5/053
, C09K 3/00
, F16F 15/08
, F16F 1/36
, F16F 7/00
FI (6件):
C08L21/00
, C08K5/053
, C09K3/00 P
, F16F15/08 D
, F16F1/36 C
, F16F7/00 B
Fターム (25件):
3J048AA01
, 3J048AC01
, 3J048BA08
, 3J048BA11
, 3J048EA38
, 3J059AB20
, 3J059AD06
, 3J059BA41
, 3J059BC06
, 3J066AA26
, 3J066AA29
, 4J002AC011
, 4J002AC031
, 4J002AC061
, 4J002AC081
, 4J002BB121
, 4J002BB151
, 4J002BB181
, 4J002BB241
, 4J002CK021
, 4J002CP031
, 4J002EC056
, 4J002EC066
, 4J002FD206
, 4J002GL00
引用特許:
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