X線マスクおよびこの製造方法およびこれを用いて製作したマイクロ部品

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福田武通 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-209995
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111614
出願日： 1998年07月24日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】薄膜の強度を上げて大きな露光面積を確保し、薄膜と接する吸収体パターンの接着強度を上げ、高アスペクト比の吸収体パターンを持つ構造のX線マスクを低コストで提供する。【解決手段】本発明の基本とするX線マスクは吸収体パターンが透過材に接着、固定される構造を特徴としている。これは樹脂系の透過材に接着材によって吸収体パターンを固定して得られ、高アスペクト比のものが容易に形成できる。また、樹脂薄膜の透過材は機械的に強く、これに張力をかけて支持枠に張った構造のマスクは大きな露光面積が得られる。

請求項（抜粋）：

X線マスクの構成において、吸収体パターンが樹脂膜からなる透過材上に接着固定された構造であることを特徴としたX線マスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G21K 5/02

FI (3件)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , G21K 5/02 X

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-245922
特開昭54-142072
特開昭63-078527

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