特許
J-GLOBAL ID：200903031692637680
静電吸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-018442
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190655
出願日： 1992年01月08日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 第1の電極上61に、絶縁物62を介して導電性物質もしくは半導体物質をもつ基体64を設置し、この第1の電極と基体間に電圧を印加して基体を第1の電極上に静電吸着力により保持する静電吸着装置において、基体に電位を与える第2の電極63が絶縁物に埋め込まれている。【効果】 基体に面接触させることにより、プラズマの自己バイアス以上に正側に基体の電位を設定したり、大面積基体を用いた際の、大量の電流が第2電極に流れる状態でも正常に吸着機能を示し、基体の電位を自由に制御できる。
請求項（抜粋）：
第1の電極上に、絶縁物を介して導電性物質もしくは半導体物質をもつ基体を配置し、前記第1の電極と前記基体との間に電圧を印加することによって、前記第1の電極上に前記基体を静電吸着力により保持するようになされた静電吸着装置において、前記基体に所定の電位を付与するための第2の電極が前記絶縁物に対して空間的に分離され、かつ前記第2の電極が前記基体に対して面接触していることを特徴とする静電吸着装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, B23Q 3/15
, H01L 21/302
