特許

J-GLOBAL ID：200903031697599175

低汚染表面処理方法

発明者： 大塚 健二 ,  大塚 敏治 ,  江口 勇司
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045465
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237382
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：

【要約】【課題】 表面に付着した汚れ物質も水洗等により容易に除去可能な、耐汚染性を付与するための低汚染表面処理方法を提供する。【解決手段】 上からヘキサデカン層、水層を有し、ヘキサデカン-水界面を形成する測定系の該ヘキサデカン-水界面に対して、測定面が垂直となるようにヘキサデカン層の上から測定サンプルを水層に向けて侵入させた際に、前記測定面とヘキサデカン-水界面とがなす角度(θH/W ) を測定する試験において、前記θH/W が鈍角を示す物品表面を、θH/W が鋭角となるように親水化処理する。

請求項（抜粋）：

上からヘキサデカン層、水層を有し、ヘキサデカン-水界面を形成する測定系の該ヘキサデカン-水界面に対して、測定面が垂直となるようにヘキサデカン層の上から測定サンプルを水層に向けて侵入させた際に、前記測定面とヘキサデカン-水界面とがなす角度(θH/W ) を測定する試験において、前記θH/W が鈍角を示す物品表面を、θH/W が鋭角となるように親水化処理することを特徴とする低汚染表面処理方法。

IPC (3件)：

C09D163/00 ,  C09D 5/16 ,  G01N 13/00

FI (3件)：

C09D163/00 ,  C09D 5/16 ,  G01N 13/00