多孔性シリカ

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武井英夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-300720
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118841
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】機械的強度の優れた多孔性シリカ薄膜を提供する。【解決手段】多孔性シリカの空孔率が高くて、空孔径がナノメーターサイズであり、さらに構造中に特定量の有機ポリマーまたはその変性物が残存する多孔性シリカ薄膜。

請求項（抜粋）：

アルコキシシラン類の加水分解・縮合反応により得られるシリカと有機ポリマーとの複合体から有機ポリマーを除去して得られる多孔性シリカ薄膜であって、シリカ内の有機物由来の残留物が3〜15重量%であり、その空孔率が30〜80%、最大孔径が50nm以下であることを特徴とする多孔性シリカ薄膜。

IPC (4件)：

H01L 21/316 , C01B 33/00 , H01L 21/283 , H01L 21/768

FI (4件)：

H01L 21/316 G , C01B 33/00 , H01L 21/283 P , H01L 21/90 S

Fターム (40件)：

4G072AA28 , 4G072BB09 , 4G072BB15 , 4G072EE05 , 4G072EE07 , 4G072FF09 , 4G072GG01 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ38 , 4G072JJ47 , 4G072KK01 , 4G072LL06 , 4G072LL11 , 4G072LL15 , 4G072MM01 , 4G072MM02 , 4G072MM36 , 4G072NN21 , 4G072PP17 , 4G072RR05 , 4G072RR12 , 4G072TT30 , 4G072UU30 , 4M104EE14 , 4M104HH09 , 5F033RR09 , 5F033SS22 , 5F033WW00 , 5F033WW02 , 5F033XX12 , 5F033XX23 , 5F058BA10 , 5F058BA20 , 5F058BC05 , 5F058BC20 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ01 , 5F058BJ02

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